Корпорация Intel достигла важных рубежей в развитии программы EUV-литографии
11.08.2004 00:00
версия для печати
Корпорация установила первый в мире коммерческий аппарат EUV-литографии и пилотную линию по нанесению EUV-масок, что знаменует собой переход данной технологии из стадии исследований в стадию разработки и развития. Литография – это технология печати схем на компьютерных микросхемах. Корпорация Intel планирует начать массовое производство устройств на базе новой технологии в 2009 году. Помимо установки аппарата MET, корпорация Intel развернула пилотную производственную линию EUV-масок. Она станет основой будущего производства масок, которым корпорация Intel планирует заняться самостоятельно. Пилотная линия интегрирует EUV-модули в используемый в корпорации Intel производственный процесс изготовления масок и включает первые в мире средства создания EUV-масок на промышленном уровне. Рубрики: Оборудование
наверх
Для того, чтобы вставить ссылку на материал к себе на сайт надо:
|
|||||
А знаете ли Вы что?
ITSZ.RU: последние новости Петербурга и Северо-Запада |
||